特許
J-GLOBAL ID：200903042210078231

耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物および感光性基材、ならびにネガ型パターン形成方法

発明者：
表 利彦

表 利彦 について

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林 俊一

林 俊一 について

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藤井 弘文

藤井 弘文 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-287384
公開番号（公開出願番号）：特開平6-075376
出願日： 1992年10月26日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】 感光性を有する樹脂成分がいかなる構造であっても、充分に対応でき、しかも感度や解像度に優れた耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物、およびこの組成物を用いてなる感光性基材ならびにパターン形成方法を提供する。【構成】 特定構造を有するポリイミド前駆体からなる樹脂成分に、特定の構造を有し、活性光線の照射によって塩基性を呈する4-(2’-ニトロフェニル)-1,4-ジヒドロピリジン類を含有させることによって、活性光線の照射によって耐熱性の良好なネガ型のパターンとなるフォトレジスト組成物を得ることができる。また、現像速度を速めるために特定の溶解促進剤を併存させることもできる。
請求項（抜粋）：
下記式(化1)にて示される構造単位を有する樹脂成分と、【化1】(但し、式中の矢印の結合は異性化によって置換可能な結合を示し、R1 およびR2 はそれぞれ4価および2価の芳香族または脂肪族炭化水素残基である。)下記式(化2)にて示される活性光線の照射にて塩基性を呈する化合物と、【化2】(但し、式中、R3 およびR4 は水素原子もしくは炭素数1〜3のアルキル基、R5 およびR6 は炭素数1〜4のアルキル基もしくはアルコキシル基、アニリノ基、トルイジノ基、ベンジルオキシ基、アミノ基、ジアルキルアミノ基から選ばれる一種であり、X1 〜X4 はそれぞれ水素原子、フッ素原子、ニトロ基、メトキシ基、ジアルキルアミノ基、アミノ基、シアノ基、フッ素化アルキル基から選ばれる一種である。)を含有してなる耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/038 504 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 531 ,  H01L 21/027
引用特許：
審査官引用 (3件)

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