レジスト画像形成材、及びそのレジスト画像形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-035999
公開番号（公開出願番号）：特開2005-227528
出願日： 2004年02月13日
公開日（公表日）： 2005年08月25日
要約：

【目的】レジスト画像形成材における青紫光感光性の光重合性組成物層を直接描画法により露光し、現像処理してレジスト画像を形成するにおいて、高解像性を発現し、製造安定性にも優れたレジスト画像形成材、及びそのレジスト画像形成方法を提供する。【構成】被加工基板上に青紫光感光性の光重合性組成物の層を有するレジスト画像形成材であって、該光重合性組成物における酸化防止剤の含有量が10〜500ppmであるレジスト画像形成材、及び、該レジスト画像形成材の光重合性組成物層を、直接描画法により露光し、現像処理するレジスト画像形成方法。

請求項（抜粋）：

被加工基板上に青紫光感光性の光重合性組成物の層を有するレジスト画像形成材であって、該光重合性組成物における酸化防止剤の含有量が10〜500ppmであることを特徴とするレジスト画像形成材。

IPC (7件)：

G03F7/004 , C08F2/50 , C08F265/00 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/033 , H05K3/00

FI (8件)：

G03F7/004 502 , G03F7/004 503Z , C08F2/50 , C08F265/00 , G03F7/027 502 , G03F7/028 , G03F7/033 , H05K3/00 F

Fターム (44件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB15 , 2H025AD01 , 2H025BC42 , 2H025CA27 , 2H025CA28 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB43 , 2H025CC01 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 4J011QA02 , 4J011QA03 , 4J011QA05 , 4J011QA06 , 4J011QA09 , 4J011QA13 , 4J011QA14 , 4J011QA46 , 4J011RA03 , 4J011SA25 , 4J011SA78 , 4J011TA01 , 4J011TA02 , 4J011TA03 , 4J011TA07 , 4J011UA02 , 4J011VA01 , 4J011WA01 , 4J026AA17 , 4J026AA43 , 4J026AA45 , 4J026AA48 , 4J026BA25 , 4J026BA27 , 4J026BA28 , 4J026BB01 , 4J026DB06 , 4J026DB36 , 4J026FA05 , 4J026GA07 , 4J026GA08

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-230756
感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-230656 出願人：東レ株式会社
特開平3-087744

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