特許

J-GLOBAL ID：200903042346217570

超微粒子作製装置

発明者： 奥山 秀男 ,  宇田 雅広 ,  目 義男 ,  渡辺 正晴
出願人/特許権者： 独立行政法人物質・材料研究機構 ,  アトーテック株式会社
代理人 (1件)： 奥山 雄毅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-330966
公開番号（公開出願番号）：特開2005-097654
出願日： 2003年09月24日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】 強制蒸発法によって発生した超微粒子の凝集、再溶融化を有利に防止して、粒度分布の揃った超微粒子を有利に製造することができる超微粒子作製装置を提案する。【解決手段】 超微粒子発生室1と、この超微粒子発生室1に連結する超微粒子捕集室2とをそなえ、この超微粒子発生室1内に、電源と接続する材料載置台4と放電用電極5とを近接して配置するとともに、超微粒子発生室1内でのアーク放電により反応させるガスの導入口7を設け、この材料載置台4に載置した材料の蒸発により発生する超微粒子を、ガス気流によって超微粒子捕集室2へ搬送させる超微粒子作製装置であって、この超微粒子発生室1は、略半円筒形を有し、かつ、超微粒子捕集室2に連なる一端が略半円錐形からなる形状である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

超微粒子発生室と、この超微粒子発生室に連結する超微粒子捕集室とをそなえ、この超微粒子発生室内に、電源と接続する材料載置台と放電用電極とを近接して配置するとともに、超微粒子発生室内でのアーク放電により反応させるガスの導入口を設け、この材料載置台に載置した材料の蒸発により発生する超微粒子を、ガス気流によって超微粒子捕集室へ搬送させる超微粒子作製装置において、 前記超微粒子発生室は、略半円筒形を有し、かつ、超微粒子捕集室に連なる一端が略半円錐形からなる形状であることを特徴とする超微粒子作製装置。

IPC (1件)：

B22F9/14

FI (1件)：

B22F9/14 Z

Fターム (5件)：

4K017AA02 ,  4K017AA06 ,  4K017CA08 ,  4K017EF02 ,  4K017FA01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特公昭58-54166号公報
  
• 特開平2-22405号公報
  
• 特許第3383608号明細書
  

審査官引用 (2件)

• 特開平2-022405
  
• ナノ構造材料を製造するための方法及び装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-505974   出願人：ナノフェイズテクノロジーズコーポレイション