特許

J-GLOBAL ID：200903042405869110

半導体基板の洗浄装置

発明者： 真名子 和義
出願人/特許権者： 住友シチックス株式会社
代理人 (1件)： 森 正澄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-283562
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129584
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【目的】 処理液温度及び酸化性ガスの溶解量を調節し、溶解量が調節された酸化性ガスを含む洗浄液をウエーハ表面にむらなく供給して、ウエーハを安定に洗浄できる半導体基板の洗浄装置を提供すること。【構成】 半導体基板の洗浄を行う洗浄槽2と循環濾過装置を備えた半導体基板の洗浄装置において、洗浄液中の不純物を清浄するための濾過ライン中に設けたポンプ6及びフィルターユニット7と、ポンプ6及びフィルターユニット7の下流側に設けられ、洗浄液の温度調節を行うとともに、洗浄液にガスを溶解する温度調節機能付き気体混合装置8と、気体混合装置8の下流側に設けられ、混合したガスの未溶解分を洗浄液から分離するガス分離装置9と、を備えた構成の半導体基板の洗浄装置である。

請求項（抜粋）：

半導体基板の洗浄を行う洗浄槽と循環濾過装置を備えた半導体基板の洗浄装置において、洗浄液中の不純物を清浄するための濾過ライン中に設けたポンプ及びフィルターユニットと、前記ポンプ及びフィルターユニットの下流側に設けられ、洗浄液の温度調節を行うとともに、洗浄液にガスを溶解する温度調節機能付き気体混合装置と、前記気体混合装置の下流側に設けられ、混合したガスの未溶解分を洗浄液から分離するガス分離装置と、を備えたことを特徴とする半導体基板の洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B01D 19/00 ,  B01D 35/02

FI (5件)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/304 341 Z ,  B01D 19/00 Z ,  B01D 35/02 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 薬液供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-200959   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 加温純水リサイクルシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-133730   出願人：富士通株式会社