特許
J-GLOBAL ID:200903042467516892

炭素膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡田 和秀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-200535
公開番号(公開出願番号):特開2008-024560
出願日: 2006年07月24日
公開日(公表日): 2008年02月07日
要約:
【課題】量産性に優れかつ安価に量産することが可能な炭素膜の製造方法を提供する。【解決手段】炭素を含有している炭素含有化合物と、触媒金属または触媒金属を含む金属化合物と、を溶媒中に混入してなる塗料を基材の表面に塗布する塗布工程と、上記基材表面に塗布された塗料を焼成して基材表面に炭素膜を成長させる焼成工程とを、を含む。【選択図】図4
請求項(抜粋):
炭素を含有している炭素含有化合物と、触媒金属または触媒金属を含有する金属化合物と、を溶媒中に混入してなる塗料を基材の表面に塗布する塗布工程と、上記基材表面に塗布した塗料を焼成することにより基材表面に炭素膜を成長させる焼成工程とを、を含むことを特徴とする炭素膜の製造方法。
IPC (1件):
C01B 31/02
FI (1件):
C01B31/02 101Z
Fターム (17件):
4G146AA01 ,  4G146AB06 ,  4G146AB07 ,  4G146AC01B ,  4G146AD29 ,  4G146BA13 ,  4G146BA14 ,  4G146BA15 ,  4G146BA49 ,  4G146BB05 ,  4G146BC03 ,  4G146BC23 ,  4G146BC44 ,  4G146BC47 ,  4G146DA02 ,  4G146DA22 ,  4G146DA32
引用特許:
出願人引用 (2件)

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