特許
J-GLOBAL ID：200903042531067550

赤外線輻射加熱装置

発明者：
遠藤 智義

遠藤 智義 について


出願人/特許権者：
株式会社サーモ理工

株式会社サーモ理工 について


代理人 (1件)： 菊池 武胤 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-182750
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015248
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：
【要約】【課題】 加熱物全体を万遍なく加熱することができ、加熱物を短時間で超高温度に到達させることができ、効率よく加熱物を加熱することができる赤外線輻射加熱装置を提供する。【解決手段】 赤外線ランプ4と回転楕円反射ミラー5を有する赤外線発生部1と、真空チャンバー3とを具備し、上記赤外線ランプ4で発生する赤外線が、真空又は各種ガス雰囲気下にある上記真空チャンバー3内に設けてある加熱物Pを照射する赤外線輻射加熱装置であって、上記真空チャンバー3内に設けてある加熱物Pの一方面側を加熱する一方の赤外線輻射加熱装置Aと、この一方の赤外線輻射加熱装置Aと反対側に上記加熱物Pの他方面側を加熱する他方の赤外線輻射加熱装置Bを具備する。
請求項（抜粋）：
赤外線ランプと回転楕円反射ミラーを有する赤外線発生部と、真空チャンバーとを具備し、上記赤外線ランプで発生する赤外線が、真空又は各種ガス雰囲気下にある上記真空チャンバー内に設けてある加熱物を照射する赤外線輻射加熱装置であって、上記真空チャンバー内に設けてある加熱物の一方面側を加熱する一方の赤外線輻射加熱装置と、この一方の赤外線輻射加熱装置と反対側に上記加熱物の他方面側を加熱する他方の赤外線輻射加熱装置を具備することを特徴とする赤外線輻射加熱装置。
IPC (3件)：
H05B 3/00 345 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/26
FI (4件)：
H05B 3/00 345 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/26 G ,  H01L 21/26 J
Fターム (9件)：
3K058AA00 ,  3K058AA86 ,  3K058BA19 ,  3K058EA04 ,  5F045EJ01 ,  5F045EJ09 ,  5F045EK12 ,  5F045EK13 ,  5F045EK26
引用特許：
審査官引用 (8件)
  • 特開昭61-211978
  • サブストレートを加熱する装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-031194   出願人：ライボルトアクチエンゲゼルシヤフト
  • レーザアニール処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-141400   出願人：株式会社日本製鋼所
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