特許
J-GLOBAL ID：200903042544862308

含窒素有機物の処理装置及び処理方法

発明者：
佐古 猛

佐古 猛 について

, 
岡島 いづみ

岡島 いづみ について

, 
渋谷 勝利

渋谷 勝利 について

, 
隅倉 光博

隅倉 光博 について


出願人/特許権者：
国立大学法人静岡大学

国立大学法人静岡大学 について

, 
清水建設株式会社

清水建設株式会社 について


代理人 (2件)： 三好 秀和 ,  鈴木 壯兵衞
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-051332
公開番号（公開出願番号）：特開2007-229553
出願日： 2006年02月27日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：
【課題】 含窒素有機物を高い分解率で無害化するとともに、アンモニアや亜酸化窒素の生成を抑制することが可能な含窒素有機物の処理装置及びその処理方法を提供する。【解決手段】 水の臨界温度以上に加熱され、水の臨界圧力以下の高温高圧水に酸化剤を加えた流体中で、含窒素有機物の一部を酸化分解する第1分解槽2と、第1分解槽2から排出された高温高圧水中に残存する含窒素有機物及びアンモニアを、第1分解槽2の温度より低い温度且つ第1分解槽2と同一または低い圧力において、触媒の存在下で酸化分解する第2分解槽4とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
水の臨界温度以上に加熱され、水の臨界圧力よりも低い圧力の高温高圧水に酸化剤を加えた流体中で、含窒素有機物を含む混合物の一部を酸化分解する第1分解槽と、 前記第1分解槽から排出された高温高圧水中に残存する含窒素有機物及びアンモニアを、前記第1分解槽の温度より低い温度且つ前記第1分解槽と同一または低い圧力において、触媒存在下でさらに酸化分解する第2分解槽 とを備えることを特徴とする含窒素有機物の処理装置。
IPC (4件)：
B01J 3/00 ,  C02F 1/74 ,  B09B 3/00 ,  C02F 11/08
FI (4件)：
B01J3/00 A ,  C02F1/74 101 ,  B09B3/00 304Z ,  C02F11/08
Fターム (36件)：
4D004AA01 ,  4D004AA03 ,  4D004AB05 ,  4D004BA03 ,  4D004CA39 ,  4D004CC09 ,  4D004CC11 ,  4D004DA01 ,  4D004DA02 ,  4D004DA03 ,  4D004DA06 ,  4D004DA07 ,  4D050AA12 ,  4D050AB17 ,  4D050AB35 ,  4D050BB01 ,  4D050BB09 ,  4D050BC01 ,  4D050BC02 ,  4D050BC06 ,  4D050BC07 ,  4D050BD02 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA17 ,  4D059AA01 ,  4D059AA07 ,  4D059BC01 ,  4D059BC02 ,  4D059CA10 ,  4D059DA22 ,  4D059DA44 ,  4D059EA06 ,  4D059EA08 ,  4D059EB06 ,  4D059EB08
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM