特許

J-GLOBAL ID：200903042582081395

水分モニタリング装置およびこれを備えた半導体製造装置

発明者： 長谷川 博之 ,  山岡 智則 ,  増崎 宏 ,  佐藤 貴之
出願人/特許権者： 三菱マテリアルシリコン株式会社 ,  日本酸素株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-052516
公開番号（公開出願番号）：特開2001-244201
出願日： 2000年02月28日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：

【要約】【課題】 水分サンプリング装置およびこれを備えた半導体製造装置において、配管の閉塞を防いで、プロセス中でも腐食性ガスの水分を計測すること。【解決手段】 腐食性ガスが流される反応室1に一端が接続された配管9と、該配管の他端に接続され前記反応室から導入される腐食性ガスに含まれる水分を計測する水分計とを備えた水分モニタリング装置5であって、少なくとも前記配管を加熱する配管加熱機構20を備えている。

請求項（抜粋）：

腐食性ガスが流される反応室に一端が接続された配管と、該配管の他端に接続され前記反応室から導入される腐食性ガスに含まれる水分を計測する水分計とを備えた水分モニタリング装置であって、少なくとも前記配管を加熱する配管加熱機構を備えていることを特徴とする水分モニタリング装置。

IPC (7件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 ,  G01N 21/01 ,  G01N 21/03 ,  G01N 21/35 ,  G01N 21/39 ,  H01L 21/3065

FI (7件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 B ,  G01N 21/01 C ,  G01N 21/03 B ,  G01N 21/35 A ,  G01N 21/39 ,  H01L 21/302 N

Fターム (54件)：

2G057AA01 ,  2G057AB02 ,  2G057AB04 ,  2G057AC03 ,  2G057BA01 ,  2G057BC05 ,  2G057DB05 ,  2G057DC01 ,  2G057DC05 ,  2G057EA01 ,  2G057EA06 ,  2G057GA01 ,  2G057JA14 ,  2G059AA05 ,  2G059BB05 ,  2G059CC09 ,  2G059DD12 ,  2G059DD16 ,  2G059EE01 ,  2G059EE12 ,  2G059GG01 ,  2G059HH01 ,  2G059KK01 ,  2G059MM14 ,  2G059NN07 ,  4K030AA03 ,  4K030HA15 ,  4K030KA22 ,  4K030KA36 ,  4K030KA39 ,  5F004AA15 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F004BD04 ,  5F004CA01 ,  5F004CA02 ,  5F004CB02 ,  5F004CB03 ,  5F004DA24 ,  5F004DA25 ,  5F004DA29 ,  5F004DB01 ,  5F045AB02 ,  5F045AC05 ,  5F045AC15 ,  5F045AC19 ,  5F045AF03 ,  5F045BB14 ,  5F045DQ17 ,  5F045EB08 ,  5F045EC09 ,  5F045GB05 ,  5F045GB07 ,  5F045HA24

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-302857   出願人：国際電気株式会社
• 特開平2-176391
  
• 半導体レーザーを用いた水分分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-260859   出願人：日本酸素株式会社, 竹内延夫