反射防止組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-273963
公開番号（公開出願番号）：特開平8-179509
出願日： 1995年10月23日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：

【要約】【課題】環境面で問題となる有機媒体の使用量が少なくても良好に反射防止膜を形成することができ、基板からの光の反射を防ぐための反射防止膜として使用でき、フォトレジストとのミキシングが抑制され、薄い膜厚でもステップカバレッジが良好で、且つドライエッチング性が良好な反射防止組成物を提供する。また、解像度の低下やレジストパターンの変形が少なく、また塗布膜厚の変化による感度の変化が抑制されたパターン形成方法を提供する。【解決手段】ケン化度70%以上のポリビニルアルコール樹脂を含有する反射防止組成物を基板とフォトレジスト膜との間に塗布し、パターン形成を行う。

請求項（抜粋）：

基板とフォトレジスト膜との間に塗布される反射防止組成物において、ケン化度70%以上のポリビニルアルコール樹脂を含有することを特徴とする反射防止組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/11 503 , G03F 7/004 506 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 563 , H01L 21/30 574

引用特許：

審査官引用 (4件)

ハレーション止め組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-328816 出願人：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
特開昭60-223121
特開昭60-122933

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