特許
J-GLOBAL ID：200903042604166128

マスクの製造方法

発明者：
伊藤 正光

伊藤 正光 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-260285
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072440
出願日： 2000年08月30日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：
【要約】【課題】 歩留まりを向上させることができるマスクの製造方法を提供する。【解決手段】 マスクの製造方法では、パターン形成後、該パターンの寸法を測定し、該パターン寸法の平均値及び該パターン寸法の面内均一性を求める工程と、該平均値と該面内均一性から該マスクを使用した場合の露光裕度を計算により求める工程と、該露光裕度が所望の露光裕度を有するか否かで該マスクの良否を判断する工程とからなる。
請求項（抜粋）：
フォトマスクの製造方法において、フォトマスクのパターン形成後、該パターンの寸法を測定し、該パターン寸法の平均値及び面内均一性を求める工程と、前記平均値及び面内均一性から前記フォトマスクを使用した場合の露光裕度を計算により求める工程と、前記露光裕度が所望の露光裕度を有するか否かで前記フォトマスクの良否を判断する工程とを含むことを特徴とするフォトマスクの製造方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065
FI (3件)：
G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/302 B
Fターム (10件)：
2H095BB03 ,  2H095BD02 ,  2H095BD03 ,  2H095BD23 ,  5F004AA16 ,  5F004DA04 ,  5F004DA26 ,  5F004DB08 ,  5F004EA05 ,  5F004EB07
引用特許：
出願人引用 (2件)

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