基板現像装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-248214
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087226
出願日： 1997年09月12日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】均一な現像処理結果が得られる基板現像装置を提供する。【解決手段】処理室1内には基板Wの周囲を囲うカップ30が配置されている。カップ30には、ファンフィルタユニットFFUによってダウンフローが供給されるとともに、装置外部の排気手段に連通する排気管40が接続されている。そして、ファン21による吸気量の調整および排気ダンパー45による排気量の調整は制御部50によって制御されている。基板Wに現像液を供給するときまたは現像処理中は吸排気を停止することにより、基板Wの主面上に形成された現像液層が波立つことはなくなり、その結果現像処理の均一性が向上する。一方、基板Wにリンス液を供給するときまたはリンス液の乾燥処理中は、吸排気を行うことにより基板Wから振り切られたリンス液が飛散してカップ30外に飛び出したり、リンス液が舞い上がって基板Wに再付着して汚染するのを防止することができる。

請求項（抜粋）：

基板に現像液を供給して現像処理を行う基板現像装置であって、(a) 前記現像処理を行う処理室と、(b) 前記処理室内に配置され、基板を保持する基板保持手段と、(c) 前記処理室内に配置され、前記基板保持手段に保持された基板の上部以外の周囲を実質的に囲むカップと、(d) 前記処理室内を流下する空気の流れを形成する吸気手段と、(e) 前記カップと装置外部の排気手段とを連通する排気連通手段と、(f) 前記排気連通手段における排気量を可変に調節する排気量調節手段と、(g) 前記吸気手段による吸気量および前記排気量調節手段による排気量を制御する流量制御手段と、を備えることを特徴とする基板現像装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 502 , H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 569 C , G03F 7/30 502 , H01L 21/68 N

引用特許：

審査官引用 (3件)

回転式基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-323839 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
現像方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-011400 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板回転式現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-276376 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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