露光装置および位置決め方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-175842
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045814
出願日： 1994年07月27日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】感光基板上に形成されたアライメントマークの段差を感光基板表面との距離を一定に保つ探針を使用して検出することによって正確にアライメントマークの位置を検出することを目的とする。【構成】ステージ上に載置された感光基板Wにマスクのパターンを露光する装置において、露光視野の中心から略一定距離に設けられ、感光基板表面からの距離を一定に保つように表面に対して垂直に移動する探針24を備えたマーク検出手段18と、ステージ9の移動座標を検出するステージ位置検出手段12,13と、マーク検出手段の検出信号とステージ位置検出手段の移動座標とからマーク位置を出力する演算手段を備えた。

請求項（抜粋）：

「段差のあるアライメントマークを有する基板であって、表面に感光層が塗布された感光基板」を載置する移動ステージを備え、マスクに形成されたパターンを前記感光基板上に露光する露光装置において、前記感光層の表面に対して垂直方向の距離を一定に保つように保持された探針を備え、該探針で前記感光層の表面を相対的に走査することにより、前記アライメントマークの段差に応じて変化する検出信号を出力するマーク検出手段と、前記ステージの位置座標を出力するステージ位置検出手段と、前記マーク検出手段の検出信号が変化した時に前記ステージ位置検出手段が出力する位置座標から、前記アライメントマークのマーク位置座標を出力する出力装置を備え、前記マーク位置座標に基づいて前記ステージを移動させて露光を行うことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

基板位置合わせ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-360472 出願人：ソニー株式会社
露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-293030 出願人：キヤノン株式会社

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