特許
J-GLOBAL ID：200903042673919022

基板の処理装置及び処理方法

発明者：
磯 明典

磯 明典 について

, 
西部 幸伸

西部 幸伸 について

, 
藤森 康朝

藤森 康朝 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (5件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-226126
公開番号（公開出願番号）：特開2008-198974
出願日： 2007年08月31日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
要約：
【課題】ナノバブルを効率よく発生させて基板の処理を良好に行なえるようにした処理装置を提供することにある。【解決手段】基板を処理液によって処理する処理装置であって、 ナノバブルを発生させ、そのナノバブルを処理液に混合させるナノバブル発生手段を備え、ナノバブル発生手段は、内部に剪断室3が形成された気体剪断器2と、気体剪断器の軸方向の一端部に設けられ気体を剪断室に旋回させて供給する気体供給口6と、気体剪断器の一端部の外周面に設けられ処理液を剪断室に旋回させて供給し、気体との旋回速度の差によって気体からナノバブルを発生させる液体供給口7とによって構成されている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板を処理液によって処理する処理装置であって、 ナノバブルを発生させ、そのナノバブルを上記処理液に混合させるナノバブル発生手段を備え、 上記ナノバブル発生手段は、 内部に剪断室が形成された気体剪断器と、 上記気体剪断器の軸方向の一端部に設けられ上記気体を上記剪断室に旋回させて供給する気体供給部と、 上記気体剪断器の一端部の外周面に設けられ上記処理液を上記剪断室に旋回させて供給し、上記気体との旋回速度の差によって上記気体から上記ナノバブルを発生させる液体供給部と によって構成されていることを特徴とする基板の処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/027 ,  G02F 1/133 ,  G02F 1/13
FI (8件)：
H01L21/304 643C ,  H01L21/304 643D ,  H01L21/304 642E ,  H01L21/304 642F ,  H01L21/306 B ,  H01L21/30 572B ,  G02F1/1333 500 ,  G02F1/13 101
Fターム (40件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  5F043BB30 ,  5F043DD13 ,  5F043EE05 ,  5F043EE06 ,  5F043GG10 ,  5F046MA02 ,  5F046MA05 ,  5F046MA06 ,  5F157AA42 ,  5F157AA64 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB34 ,  5F157AB82 ,  5F157AB89 ,  5F157AC01 ,  5F157BB02 ,  5F157BB09 ,  5F157BB22 ,  5F157BB73 ,  5F157BB79 ,  5F157BC14 ,  5F157BC41 ,  5F157BE12 ,  5F157BG72 ,  5F157BG75 ,  5F157BG83 ,  5F157BG84 ,  5F157BH15 ,  5F157DB03 ,  5F157DB41 ,  5F157DB53
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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