特許
J-GLOBAL ID：200903054985719223

基板処理装置およびパーティクル除去方法

発明者：
樋口 鮎美

樋口 鮎美 について

, 
新居 健一郎

新居 健一郎 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-331543
公開番号（公開出願番号）：特開2006-147617
出願日： 2004年11月16日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：
【課題】浸漬型の基板処理装置において、処理槽内のパーティクルを短時間に効率よく除去できる技術を提供する。【解決手段】マイクロバブル発生部30から、処理槽10内の処理液へマイクロバブルを供給する。そして、処理液の循環系40の経路途中に設けられた気泡除去部61,62においてマイクロバブルを除去する。処理槽10内のパーティクルは、マイクロバブルに吸着して処理液の流れに乗って循環され、気泡除去部61,62においてマイクロバブルとともに除去される。マイクロバブルは各気泡のサイズが微小であるため、全体として広い表面積を有し、処理液中のパーティクルを効率よく吸着して除去する。マイクロバブルよりさらに微小なナノバブルを利用してもよい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を液体により処理する基板処理装置であって、 液体を貯留する処理槽と、 前記処理槽内の液体へマイクロバブルまたはナノバブルを供給するバブル供給手段と、 前記処理槽内の液体をマイクロバブルまたはナノバブルとともに前記処理槽外へ排出する排出手段と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/304
FI (3件)：
H01L21/304 642Z ,  H01L21/304 648F ,  H01L21/304 648K
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-140860   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (5件)
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