基板処理装置およびパーティクル除去方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：吉田茂明 , 吉竹英俊 , 有田貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-372960
公開番号（公開出願番号）：特開2006-179765
出願日： 2004年12月24日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：

【課題】基板処理装置において、基板に対するダメージを抑制しつつ、基板の表面からパーティクルを効率よく除去できる技術を提供する。【解決手段】基板処理装置1では、マイクロバブル発生部33においてマイクロバブルを発生させ、マイクロバブルを含む純水を、処理槽10内の基板Wへ供給する。また、超音波発生部50において超音波振動を発生させ、処理槽10内の純水を介して基板Wの表面まで超音波振動を伝搬させる。このため、基板Wの表面に付着したパーティクルは、超音波振動の衝撃によって基板Wの表面から遊離し、その後、マイクロバブルに吸着されて、処理槽10外まで運搬される。また、基板Wの周辺にマイクロバブルを供給しつつ超音波振動を付与するため、超音波振動による過度の衝撃がマイクロバブルに吸収され、基板Wに対するダメージを緩和できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

液体により基板の処理を行う基板処理装置であって、液体を貯留する処理槽と、前記処理槽内の液体に浸漬させた状態で基板を保持する保持手段と、前記処理槽内に液体を供給する液体供給手段と、前記処理槽内に貯留された液体に超音波振動を付与する超音波振動付与手段と、前記液体供給手段から前記処理槽内へ供給される液体にマイクロバブルを発生させるマイクロバブル発生手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (2件)：

H01L21/304 642E , H01L21/304 647Z

引用特許：

出願人引用 (1件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-223109 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (5件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-178035 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板洗浄装置および基板洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-124708 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-278611 出願人：富士機器工業株式会社

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