光ディスクの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石川泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-234546
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083581
出願日： 1996年09月04日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】現行の露光装置やフォトレジストを使用した場合にも記録密度を著しく向上させることができる光ディスクの製造方法を提供する。【解決手段】光脱色性化合物及びバインダーを含有するコントラスト増強材料からなるコントラスト増強層を介してフォトレジスト膜を露光する。その際に、露光ビームが照射される各照射点における個々の露光処理を、露光ビームの総照射エネルギー量がコントラスト増強層の光透過率を最高値に到達させるのに必要な最小照射エネルギー量の2倍以下の範囲にあるうちに完了させる。

請求項（抜粋）：

[A] (1)基板上にフォトレジスト膜を形成する工程、(2)フォトレジスト膜上に、光脱色性化合物及びバインダーを含有するコントラスト増強材料からなるコントラスト増強層を形成する工程、(3)前記フォトレジスト膜に前記コントラスト増強層を介して露光処理を行ってピットパターンを形成する工程、(4)前記コントラスト増強層を剥離する工程、(5)ピットパターンが形成されたフォトレジスト膜を現像処理してフォトレジスト原盤を作製する工程、(6)フォトレジスト原盤にメッキを行ってスタンパを作製する工程、及び(7)前記スタンパを用いた射出成形によりディスクを作製する工程を少なくとも含み、[B] ピットパターンを形成する前記工程において、露光ビームが照射される各照射点における個々の露光処理を、露光ビームの総照射エネルギー量がコントラスト増強層の光透過率を最高値に到達させるのに必要な最小照射エネルギー量の2倍以下の範囲にあるうちに完了させることを特徴とする光ディスクの製造方法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/095 501 , G03F 7/26 512

FI (3件)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/095 501 , G03F 7/26 512

引用特許：

審査官引用 (3件)

光ディスク用原盤の作製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-029372 出願人：株式会社日立製作所, 日立マクセル株式会社
ピット形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-240208 出願人：日本電気株式会社
特開昭59-104642

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