画像処理装置および画像処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤正美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-273606
公開番号（公開出願番号）：特開2009-104284
出願日： 2007年10月22日
公開日（公表日）： 2009年05月14日
要約：

【課題】処理対象となる画像やその処理についての様々な状況に応じて、適切なブロックマッチング処理が行えるようにした画像処理方法を提供する。【解決手段】ターゲット画面および参照画面のそれぞれを所定の縮小率で縮小した縮小ターゲット画面および縮小参照画面間でブロックマッチングを行う縮小面マッチングモードと、縮小しないターゲット画面および参照画面である基底ターゲット画面および基底参照画面間でブロックマッチングを行う基底面マッチングモードと、縮小面マッチングモードまたは基底面マッチングモードにより検出された最強相関参照ブロックの相関値とその近傍の参照ブロックの相関値とを用いて補間処理を行うモードなどの、複数のモードを設ける。処理速度や動きベクトルの検出精度に基づいて、いずれのモードを用いるか、あるいは、その組み合わせを用いるかを選択することができるようにする。【選択図】図33

請求項（抜粋）：

ターゲット画面と参照画面との2画面間の動きベクトルを算出する画像処理装置であって、ターゲット画面において所定の位置に設定された所定の大きさのターゲットブロックと同じ大きさの参照ブロックが、前記参照画面に設定された第1のサーチ範囲において複数個設定され、前記複数個の参照ブロックの内から、前記ターゲットブロックと相関の強い最強相関基底面参照ブロックを検出し、検出した前記最強相関基底面参照ブロックの前記ターゲットブロックに対する画面上の位置ずれ量に基づいて、基底面動きベクトルを算出する基底面動きベクトル算出手段と、前記最強相関基底面参照ブロックの相関値および前記最強相関基底面参照ブロックの近傍位置の複数個の前記参照ブロックの相関値を用いて補間処理をして、高精度最強相関基底面参照ブロックの位置を検出し、前記高精度最強相関基底面参照ブロックの前記ターゲットブロックに対する画面上の位置ずれ量に基づいて、高精度基底面動きベクトルを算出する高精度基底面動きベクトル算出手段と、前記ターゲット画面および前記参照画面のそれぞれを所定の縮小率で縮小した縮小ターゲット画面および縮小参照画面を生成し、前記縮小ターゲット画面の所定の位置に設定された所定の大きさの縮小面ターゲットブロックと同じ大きさの縮小面参照ブロックが、前記縮小参照画面に設定された第2のサーチ範囲において複数個設定され、前記複数個の縮小面参照ブロックの内から、前記縮小面ターゲットブロックと相関の強い最強相関縮小面参照ブロックを検出し、検出した前記最強相関縮小面参照ブロックの前記縮小面ターゲットブロックに対する画面上の位置ずれ量に基づいて、縮小面動きベクトルを算出する縮小面動きベクトル算出手段と、前記最強相関縮小面参照ブロックの相関値および前記最強相関縮小面参照ブロックの近傍位置の複数個の前記縮小面参照ブロックの相関値を用いて補間処理をして、高精度最強相関縮小面参照ブロックの位置を検出し、前記高精度最強相関縮小面参照ブロックの前記ターゲットブロックに対する画面上の位置ずれ量に基づいて、高精度縮小面動きベクトルを算出する高精度縮小面動きベクトル算出手段と、前記縮小面動きベクトル算出手段で算出された前記縮小面動きベクトルに基づいて、前記第1のサーチ範囲を決定する第1の基底面サーチ範囲決定手段と、前記高精度縮小面動きベクトル算出手段で算出された前記高精度縮小面動きベクトルに基づいて、前記第1のサーチ範囲を決定する第2の基底面サーチ範囲決定手段と、を備えると共に、前記基底面動きベクトル算出手段と、前記高精度動きベクトル算出手段と、前記縮小面動きベクトル算出手段と、前記高精度動きベクトル算出手段との、いずれを用いるかを選択すると共に、前記第1の基底面サーチ範囲決定手段または前記第2の基底面サーチ範囲決定手段を使用するか、使用する場合には、前記第1の基底面サーチ範囲決定手段または前記第2の基底面サーチ範囲決定手段のいずれを使用するかを選択する選択手段と、を備える画像処理装置。

IPC (3件)：

G06T 7/20 , H04N 7/26 , H04N 5/265

FI (3件)：

G06T7/20 B , H04N7/13 Z , H04N5/265

Fターム (75件)：

5C023AA01 , 5C023AA21 , 5C023BA01 , 5C023BA15 , 5C023CA03 , 5C023DA08 , 5C023EA04 , 5C059KK01 , 5C059LB05 , 5C059LB15 , 5C059MA00 , 5C059NN01 , 5C059NN02 , 5C059NN03 , 5C059NN14 , 5C059NN15 , 5C059PP01 , 5C059PP04 , 5C059PP15 , 5C059PP16 , 5C059SS13 , 5C059SS14 , 5C059TA63 , 5C059TA68 , 5C059TB08 , 5C059TC03 , 5C059TC12 , 5C059TC42 , 5C059TD02 , 5C059TD05 , 5C059TD06 , 5C059TD12 , 5C059TD16 , 5C059UA02 , 5C059UA12 , 5C059UA17 , 5C059UA31 , 5C159KK01 , 5C159LB05 , 5C159LB15 , 5C159MA00 , 5C159NN01 , 5C159NN02 , 5C159NN03 , 5C159NN14 , 5C159NN15 , 5C159PP01 , 5C159PP04 , 5C159PP15 , 5C159PP16 , 5C159SS13 , 5C159SS14 , 5C159TA63 , 5C159TA68 , 5C159TB08 , 5C159TC03 , 5C159TC12 , 5C159TC42 , 5C159TD02 , 5C159TD05 , 5C159TD06 , 5C159TD12 , 5C159TD16 , 5C159UA02 , 5C159UA12 , 5C159UA17 , 5C159UA31 , 5L096AA06 , 5L096CA04 , 5L096EA03 , 5L096FA69 , 5L096HA04 , 5L096HA08 , 5L096JA09 , 5L096JA14

引用特許：

出願人引用 (3件)

動きベクトル検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-254965 出願人：ソニー株式会社
アルケニルポリエーテルの製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-351364 出願人：花王株式会社
動きベクトル検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-184061 出願人：ソニー株式会社

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