特許
J-GLOBAL ID:200903042817806732

マイクロプラズマ反応装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-295457
公開番号(公開出願番号):特開2006-104545
出願日: 2004年10月07日
公開日(公表日): 2006年04月20日
要約:
【課題】常温・常圧下に極微小空間に低エネルギーで安定発生させることができる低温マイクロプラズマ発生機構(トーチ)を備えたマイクロプラズマ反応装置を提供する。【解決手段】試料ガス導入管が接続されたプラズマトーチ外管の内部にプラズマガス導入管が接続されたプラズマトーチ内管を設けてなる筒状のプラズマトーチ、前記プラズマトーチ内管の出口部近傍の外周に設けられたプラズマガス励起用高周波コイル、および原料モノマーガス供給手段を備えたマイクロプラズマ反応装置。【選択図】図1
請求項(抜粋):
試料ガス導入管が接続されたプラズマトーチ外管の内部にプラズマガス導入管が接続されたプラズマトーチ内管を設けてなる筒状のプラズマトーチ、前記プラズマトーチ内管の出口部近傍の外周に設けられたプラズマガス励起用高周波コイル、および原料モノマーガス供給手段を備えたことを特徴とするマイクロプラズマ反応装置。
IPC (1件):
C23C 14/12
FI (1件):
C23C14/12
Fターム (11件):
4K029AA02 ,  4K029AA06 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA12 ,  4K029EA01 ,  4K029EA06 ,  4K029EA09
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)

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