特許
J-GLOBAL ID：200903059908452534
プラズマジェット発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-297850
公開番号（公開出願番号）：特開2003-109795
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月11日
要約：
【要約】【課題】 高密度プラズマを細いノズルからジェット状に噴出させ、被加工物の局所部位に溶断、エッチング、薄膜堆積などの加工、表面処理を高速で行うプラズマジェット発生装置を提供する。【解決手段】 放電管(2)と、放電管(2)付近に配置されたソレノイドアンテナ(4)およびその電源(9)から構成されている高周波誘導結合式のプラズマ発生装置であって、放電管(2)の一端に放電管(2)よりも内径の小さいノズル(6)を有し、放電管(2)の内径が5mm以下であり且つVHF帯の高周波電源(9)により駆動されることを特徴とするプラズマジェット発生装置(1)。
請求項（抜粋）：
放電管と、放電管付近に配置されたアンテナおよびその電源から構成される高周波誘導結合式のプラズマ発生装置において、放電管の一端に放電管よりも内径の小さいノズルを有し、放電管の内径が5mm以下であり且つVHF帯の高周波電源により駆動されることを特徴とするプラズマジェット発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
