特許

J-GLOBAL ID：200903042837491070

ベンジルスルホニウムトリフルオロメタンスルホン酸塩

発明者： 渡辺 淳 ,  八木橋 不二夫 ,  大萱 資子 ,  高見沢 稔
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 滝田 清暉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-042535
公開番号（公開出願番号）：特開平8-208597
出願日： 1995年02月07日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：

【要約】【目的】 感化学線硬化性樹脂用酸発生剤として、有効かつ新規な、ベンジルスルホニウムトリフルオロメタンスルホン酸塩を提供。【構成】 下記化1で表されるトリベンジルスルホニウム誘導体トリフルオロメタンスルホン酸塩;【化1】但し、化1中のR1からR15は、それぞれ水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基の何れかを表わし、それらはそれぞれ同一であっても異なっても良い。

請求項（抜粋）：

下記化1で表されるトリベンジルスルホニウム誘導体トリフルオロメタンスルホン酸塩;【化1】但し、化1中のR1からR15は、それぞれ水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基の何れかを表わし、それらはそれぞれ同一であっても異なっても良い。

IPC (3件)：

C07C381/12 ,  C08F 2/48 MDH ,  C09K 3/00

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平2-232215
  
• 三層レジスト法によるパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-062622   出願人：沖電気工業株式会社
• ポジ型化学増幅系レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-344419   出願人：日本合成ゴム株式会社

審査官引用 (4件)

• 特開平2-232215
  
• 特開平2-232215
  
• 三層レジスト法によるパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-062622   出願人：沖電気工業株式会社
• ポジ型化学増幅系レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-344419   出願人：日本合成ゴム株式会社