特許
J-GLOBAL ID：200903043111117787

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
平野 修史

平野 修史 について

, 
水谷 一良

水谷 一良 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-079221
公開番号（公開出願番号）：特開2006-301609
出願日： 2006年03月22日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：
【課題】活性光線又は放射線によるパターン形成用として、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さく、表面ラフネスが良好であり、更には、アウトガス、溶解コントラスト、PEB温度依存性が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (B)少なくとも下記一般式(B1)もしくは一般式(B2)で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (4件)
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