特許
J-GLOBAL ID：200903043140764481
露光装置のパラメータの値を最適化する方法及びシステム、露光装置及び露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-263578
公開番号（公開出願番号）：特開2004-103822
出願日： 2002年09月10日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：
【課題】露光装置に設定された装置パラメータが最適であるか否かを判断して、露光装置の装置パラメータを最適化する露光装置及び方法、並びに最適化方法及びシステムを提供する。【解決手段】レチクル(マスク)と被露光体とのアライメントに使用され、前記被露光体に形成されたアライメントマークの情報を、露光装置において設定可能な装置パラメータを変化させながら取得するステップと、前記取得ステップによって得られた前記アライメントマークの前記情報に基づいて、前記露光装置の前記装置パラメータを最適化するステップと、前記最適化された装置パラメータを有する前記露光装置を使用して前記レチクル(マスク)に形成されたパターンを前記被露光体に転写するステップとを有することを特徴とする露光方法を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
レチクルと被露光体とのアライメントに使用され、前記被露光体に形成されたアライメントマークの情報を、露光装置において設定可能な装置パラメータの値を変化させながら取得するステップと、
前記取得ステップによって得られた前記アライメントマークの情報に基づいて、前記露光装置の前記装置パラメータの値を最適化するステップと、
前記最適化された装置パラメータの値を有する前記露光装置を使用して前記レチクルに形成されたパターンを前記被露光体に転写するステップとを有することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 525W
, G03F7/22 H
5F046BA04
, 5F046EA09
, 5F046EB01
, 5F046FC04
, 5F046FC08
, 5F046FC10
