特許

J-GLOBAL ID：200903043228689021

照明を最適化する方法および投影結像装置

発明者： ジョセフ・エドワード・ゴルティッチ ,  アラン・エドワード・ローゼンブルース
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-128796
公開番号（公開出願番号）：特開平8-335552
出願日： 1996年05月23日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：

【要約】【課題】 従来の光学的投影装置、特に従来のフォトリソグラフィ装置の解像度を増大する方法および装置を提供する。【解決手段】 投影されたマスク像の最良の組合わせを見つける最適化アルゴリズムを用いる。マスク像は、入射瞳28内の選択領域(例えば画素)を照明する。最適化照明は、所定の目標架空像(target aerial image)に最も近似する架空像を形成する照明として定められる。装置は、この最適化照明を実現するのに必要な照明分布を与えるように照明源24を設定する。利用できる入射瞳領域を照明でアドレスすることによって形成された架空像(aerial image)の設定は、数値計算によって、あるいは投影装置によって形成された個々の架空像を走査して記録することによって決定される。

請求項（抜粋）：

結像すべき1つ以上の特徴を有するレティクル,照明源,入射瞳を有する結像装置において、目標架空像放射照度分布に対して照明を最適化する方法であって、(a)前記照明源を用いて、前記レティクルを複数回照明するステップを含み、各照明は、前記入射瞳内の1つ以上の領域をアドレスし、(b)1組のレティクル架空像放射照度分布を生成するステップを含み、前記1組の各放射照度分布は、前記領域の1つに対応し、(c)前記1組のレティクル架空像放射照度分布に基づいて、前記照明源によって与える照明を決定し、前記目標架空像放射照度分布に類似の架空像放射照度分布を生成するステップを含む、方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 C ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 投影露光方法及び投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-353754   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置の設計方法及び露光用マスクの設計方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-167561   出願人：ソニー株式会社