特許
J-GLOBAL ID：200903043246409117

フォトレジスト剥離剤組成物

発明者：
西嶋 佳孝

西嶋 佳孝 について

, 
小谷 武

小谷 武 について


出願人/特許権者：
ナガセ電子化学株式会社

ナガセ電子化学株式会社 について


代理人 (1件)： 塩出 真一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-341170
公開番号（公開出願番号）：特開平8-137113
出願日： 1994年11月07日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【構成】 アルキルアミンもしくはアルカノールアミン、又はアルキルアミンもしくはアルカノールアミンと極性有機溶剤との混合物を主成分とするフォトレジスト剥離剤に、一般式化1で表わされるカルボニル基含有の化合物(I)、一般式化2で表わされるカルボニル基含有の化合物(II)、一般式化3で表わされるカルボニル基含有の化合物(III )及びシクロケトン類の少なくとも1種を0.01〜30重量%添加してなるフォトレジスト剥離剤組成物。【化1】【化2】【化3】【効果】 毒性の強いシアンの生成を抑制したフォトレジスト剥離剤組成物を得ることができる。
請求項（抜粋）：
アルキルアミンもしくはアルカノールアミン、又はアルキルアミンもしくはアルカノールアミンと極性有機溶剤との混合物と、カルボニル基含有化合物とを主成分とすることを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/027
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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