特許

J-GLOBAL ID：200903043509423829

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法、並びにそれによって製造されたデバイス

発明者： ヨハネス ヒュベルテュス ジョゼフィーナ ムーア ,  ヨハネス クリスティアーン レオナルデュス フランケン ,  ウヴェ ミカン ,  ハルム - ヤン フォールマ
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  白江 克則 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-007226
公開番号（公開出願番号）：特開2005-217398
出願日： 2005年01月14日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

【課題】デバイスを高精度で製造するためのリソグラフィ装置、デバイス製造方法並びにそれによって製造されたデバイスを提供する。【解決手段】放射の投影ビームPBを提供するための照明装置ILと、パターン形成手段MAを支持するための支持構造体MTとを有する。この装置は、基板Wを保持するための基板テーブルWTと、パターンの形成されたビームを基板Wのターゲット部分に投影するための投影装置PLと、第1の放射源SOから受け取った放射Rを照明装置ILへ送るように構成された集光器Kとをさらに有する。この集光器Kは、集光要素が、放射源SOから放射を実質的に受け取っていないときに集光器を加熱するための、少なくとも1つのヒータを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

放射の投影ビーム(PB)を提供するための照明装置(IL)と、 パターン形成手段(MA)を支持するための支持構造体(MT)であって、該パターン形成手段(MA)が前記投影ビーム(PB)の断面にパターンを与えるように働く支持構造体(MT)と、 基板(W)を保持するための基板テーブル(WT)と、 パターンの形成されたビームを前記基板(W)のターゲット部分に投影するための投影装置(PL)と、 第1の放射源(SO)から受け取った放射(R)を前記照明装置(IL)へ送るように構成された集光器(1、101、201)とを有するリソグラフィ装置において、 前記リソグラフィ装置が、前記第1の放射源(SO)からの放射を前記集光器(1、101、201、301)が実質的に受け取っていないときに、前記集光器を加熱するための、少なくとも1つのヒータ(2、102、202、302)を含むリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G02B17/00

FI (3件)：

H01L21/30 516E ,  G02B17/00 Z ,  H01L21/30 515A

Fターム (7件)：

2H087KA21 ,  2H087TA06 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB02 ,  5F046CB22 ,  5F046DA26

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 光学素子の形状安定化法及びそれを用いた光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-255800   出願人：キヤノン株式会社
• ブラストシールドを備えるプラズマフォーカス高エネルギフォトン源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-118724   出願人：サイマーインコーポレイテッド
• 照明光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-218278   出願人：株式会社ニコン