特許
J-GLOBAL ID:200903043511495080

オゾンガス注入制御システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 吉武 賢次 ,  永井 浩之 ,  岡田 淳平 ,  勝沼 宏仁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-144680
公開番号(公開出願番号):特開2005-324124
出願日: 2004年05月14日
公開日(公表日): 2005年11月24日
要約:
【課題】 オゾンガスを生成するための無駄なエネルギーの発生を抑制することができ、しかも、溶存オゾン濃度が過剰となることを抑制することにより臭素酸イオンの生成を抑制することができ、オゾン処理水の水質を適正に保つことができるオゾンガス注入制御システムを提供する。【解決手段】 オゾン反応槽3は、オゾンガス注入装置7よりオゾンが注入される複数のオゾン接触槽3a、3b、3c、3dからなる。この複数のオゾン接触槽3a、3b、3c、3dは少なくとも2つのグループG1、G2に区分される。オゾンガス注入制御装置10は、蛍光強度分析計6a、6b、6cにより測定された蛍光強度に基づいて、オゾンガス注入装置7を制御して、各オゾン接触槽3a、3b、3c、3d内に注入されるオゾンガスの注入率を、各々のグループG1、G2毎に調整する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
導入ラインを介して導入された被処理水が順次流入し、各々がオゾン注入口を有する複数のオゾン接触槽からなるオゾン反応槽と、 各オゾン接触槽内にオゾン注入口よりオゾンガスをそれぞれ注入して被処理水とオゾンガスとを反応させ、オゾン処理水を得るオゾンガス注入装置と、 導入ラインおよび/またはいずれかのオゾン接触槽に設けられ、導入ラインにおける被処理水および各オゾン接触槽内のそれぞれのオゾン処理水のうち少なくともいずれか1つの蛍光強度を測定する蛍光強度分析計と、 蛍光強度分析計により測定された蛍光強度に基づいて、オゾンガス注入装置を制御して各オゾン接触槽内に注入されるオゾンガスの注入率を調整するオゾンガス注入制御装置とを備え、 複数のオゾン接触槽は少なくとも2つのグループに区分され、 オゾンガス注入制御装置は、蛍光強度分析計により測定された蛍光強度に基づいて、オゾンガス注入装置を制御して、各オゾン接触槽内に注入されるオゾンガスの注入率を、各々のグループ毎に調整することを特徴とするオゾンガス注入制御システム。
IPC (3件):
C02F1/78 ,  G01N21/64 ,  G01N33/18
FI (3件):
C02F1/78 ,  G01N21/64 Z ,  G01N33/18 102
Fターム (19件):
2G043AA01 ,  2G043BA14 ,  2G043CA03 ,  2G043EA01 ,  2G043KA02 ,  2G043KA03 ,  2G043KA05 ,  4D050AA01 ,  4D050AA12 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB11 ,  4D050AB31 ,  4D050BB02 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
  • オゾン接触池制御システム
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-283975   出願人:株式会社東芝
  • 特開平4-225895
  • 水処理方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-282109   出願人:株式会社東芝
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