パターンデータ検証方法及び装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本眞吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-240583
公開番号（公開出願番号）：特開2002-056046
出願日： 2000年08月09日
公開日（公表日）： 2002年02月20日
要約：

【要約】【課題】マスク製作用パターンデータ作成時間を短縮すると共に該作成において生ずる人的ミスを低減する。【解決手段】設計された回路の、複数の図形データを含むパターンデータを、与えられた規則に基づいて検証する(S2)。この規則を満たさない図形データがある場合にはその内容をエラーとして出力し(S3)、該エラーが該回路の特性上問題無いことを示すエラー情報が入力されれば(S5)、該エラー情報を該パターンデータを含むファイルに付加する(S8)。このファイルを読み込み、その図形データに対し、マスク製作用露光データを得るための処理を行い、与えられた規則に基づいて、処理された該図形データを検証し、この規則を満たさない図形データがある場合には、その内容がエラー情報の内容に含まれるかどうかを判断し、含まれると判断した場合、該エラー情報の内容が問題ないことを示していれば処理を続行する。

請求項（抜粋）：

設計された回路の、複数の図形データを含むパターンデータを、与えられた第1規則に基づいて検証するパターンデータ検証方法において、該第1規則を満たさない図形データがある場合にはその内容をエラーとして出力し、該エラーが該回路の特性上問題無いことを示すエラー情報が入力されれば、該エラー情報を該パターンデータを含むファイルに付加する、ことを特徴とするパターンデータ検証方法。

IPC (4件)：

G06F 17/50 672 , G06F 17/50 666 , G03F 1/08 , H01L 21/82

FI (4件)：

G06F 17/50 672 A , G06F 17/50 666 Z , G03F 1/08 A , H01L 21/82 T

Fターム (9件)：

2H095BB01 , 5B046AA08 , 5B046BA04 , 5B046JA01 , 5B046JA02 , 5F064HH10 , 5F064HH11 , 5F064HH13 , 5F064HH14

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-036866
特開平4-186478
半導体マスクパターン検証支援装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-250419 出願人：三菱電機株式会社

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