釉薬用ガラス組成物

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-215794
公開番号（公開出願番号）：特開平11-043351
出願日： 1997年07月24日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：

【要約】【課題】鉛成分を含有せず、1000°C以下で焼成でき、しかも高い絶縁抵抗を有する釉薬用ガラス組成物を提供する。【解決手段】モル%表示でSiO2 30〜70%、B2 O3 18〜55%、ZnO 10〜50%、BaO 0〜30%、CaO 0〜30%、SrO0〜30%、MgO 0〜30%、ZnO+BaO+CaO+SrO+MgO11〜50%、Li2 O+Na2 O+K2 O 1〜10%、Al2 O3 0〜10%、TiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6%、F2 0〜15%からなり、Li2 O、Na2 O及びK2 Oから選ばれる2種以上を含有し、そのうちの一成分の含有量を1としたときに他の各成分の含有量がモル比で1〜3の範囲にあることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

モル%表示でSiO2 30〜70%、B2 O3 18〜55%、ZnO 10〜50%、BaO 0〜30%、CaO 0〜30%、SrO 0〜30%、MgO 0〜30%、ZnO+BaO+CaO+SrO+MgO 11〜50%、Li2 O+Na2 O+K2 O 1〜10%、Al2 O3 0〜10%、TiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6%、F2 0〜15%からなり、Li2 O、Na2 O及びK2 Oから選ばれる2種以上を含有し、そのうちの一成分の含有量を1としたときに他の各成分の含有量がモル比で1〜3の範囲にあることを特徴とする釉薬用ガラス組成物。

IPC (5件)：

C03C 8/00 , C03C 3/066 , C03C 3/089 , C04B 41/86 , H01T 13/38

FI (5件)：

C03C 8/00 , C03C 3/066 , C03C 3/089 , C04B 41/86 A , H01T 13/38

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開昭63-117926
絶縁磁器およびその製造方法並びに多層配線基板
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-330793 出願人：京セラ株式会社
特公昭47-005098

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