特許

J-GLOBAL ID：200903043636938188

基板処理装置

発明者： 溝崎 健吾 ,  廣瀬 統
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-018302
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204430
出願日： 1998年01月16日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】 リフトピンの周囲でのシール性の劣化を招来しないと共に、温度変化の際のリフトピンの追随性を良好にすること。【解決手段】 リフトピン40の周囲に密着するように、処理室32内をシールするための真空シール47が設けられていると共に、リフトピン40の下端に、リニアベアリングを構成するピローボール53を有する滑動部材51が設けられ、リフトピン40が加熱プレート33の熱膨張に追随して容易に側方に移動することができるようになっている。

請求項（抜粋）：

処理室内のプレートを通挿して昇降機構により昇降されるリフトピンによって処理室内に搬入された基板を受け取って前記プレートに載置し、基板への処理が終了した後、前記リフトピンにより基板を処理室内の搬出位置に持ち上げる基板処理装置であって、前記リフトピンの周囲に密着するように配置されて処理室内をシールするためのシール部材と、前記リフトピンの下端に設けられてリフトピンの側方への移動を許容するベアリング部材とを具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 571 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 567

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-138740   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 回転式基板処理装置および回転式基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-047422   出願人：大日本スクリーン製造株式会社