特許

J-GLOBAL ID：200903043713437570

基板処理装置

発明者： 島井 太 ,  河田 茂
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-108949
公開番号（公開出願番号）：特開2004-313872
出願日： 2003年04月14日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】基板を処理するスピードを落とさずに、かつ基板に現像ムラを生じない基板処理装置を提供する。【解決手段】基板の搬送方向と直交する方向に軸を合わせた多数のコロからなる搬送ラインの両側に、一対の処理液供給用ノズルを対向して配置した基板処理装置であって、前記ノズルは水平方向に旋回可能とされ、かつ各ノズルの長さは、前記基板の幅寸法の略半分とされ、供給時には前記基板上に旋回移動し、非供給時には基板の直上位置から外れる位置で待機し、また前記搬送ラインに基板の下面中央部が高く両端部が低くなるように撓ませる昇降部材を配置した。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板の搬送方向と直交する方向に軸を合わせた多数のコロからなる搬送ラインの両側に、一対の処理液供給用ノズルを対向して配置した基板処理装置であって、前記ノズルは水平方向に旋回可能とされ、また各ノズルの長さは、前記基板の幅寸法の略半分とされ、処理液の供給時には前記基板上に旋回移動し、非供給時には基板の直上位置から外れる位置で待機することを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

B05B13/02 ,  B08B3/02 ,  H01L21/027

FI (4件)：

B05B13/02 ,  B08B3/02 C ,  B08B3/02 D ,  H01L21/30 569D

Fターム (21件)：

3B201AA01 ,  3B201AB14 ,  3B201BB22 ,  3B201BB42 ,  3B201BB92 ,  3B201CB11 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  4F035CA02 ,  4F035CA05 ,  4F035CB03 ,  4F035CB13 ,  4F035CB22 ,  4F035CB26 ,  4F035CB29 ,  4F035CC01 ,  4F035CD12 ,  4F035CD18 ,  4F035CD19 ,  5F046LA11 ,  5F046LA19

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ガラス板への離型剤塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-342370   出願人：セントラル硝子株式会社
• 基板乾燥装置及びその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-044412   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 塗工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-329887   出願人：三菱重工業株式会社
• 現像装置および現像方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-220355   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理方法及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-349088   出願人：富士通株式会社