特許
J-GLOBAL ID：200903043734102098

セラミックヒータ及びその製造方法

発明者：
立松 一穂

立松 一穂 について

, 
小西 雅弘

小西 雅弘 について

, 
山口 猛

山口 猛 について


出願人/特許権者：
日本特殊陶業株式会社

日本特殊陶業株式会社 について


代理人 (1件)： 菅原 正倫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-229215
公開番号（公開出願番号）：特開2003-040678
出願日： 2001年07月30日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：
【要約】【課題】 機械的強度、耐久性に優れたセラミックヒータと、その製造方法とを提供する。【解決手段】 セラミックヒータ1は、窒化珪素質セラミック基体13中に抵抗発熱体10を埋設した構造を有し、窒化珪素質セラミック基体13が、焼結助剤に由来する酸素成分を含み、該窒化珪素質セラミック基体13の表面から1mm内部までの表層部における平均的な酸素成分濃度が0.4〜3.2重量%とされている。このようなセラミックヒータ1は、ホットプレス焼成工程を経て製造することができ、該焼成工程を行うための焼成治具について、そのキャビティ内面から所定深さのSiC/C複合層を備えたものを使用する。
請求項（抜粋）：
窒化珪素質セラミック基体中に抵抗発熱体を埋設した構造を有するセラミックヒータにおいて、前記窒化珪素質セラミック基体は、該窒化珪素質セラミック基体の表面から1mm内部までの表層部における平均的な酸素成分濃度が0.4〜3.2重量%とされていることを特徴とするセラミックヒータ。
IPC (4件)：
C04B 35/584 ,  H05B 3/10 ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/48
FI (5件)：
H05B 3/10 C ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/48 ,  C04B 35/58 102 F ,  C04B 35/58 102 Y
Fターム (34件)：
3K092PP16 ,  3K092QA01 ,  3K092QB02 ,  3K092QB62 ,  3K092QB74 ,  3K092RA02 ,  3K092RB08 ,  3K092RB22 ,  3K092VV31 ,  3K092VV40 ,  4G001BA04 ,  4G001BA08 ,  4G001BA24 ,  4G001BA32 ,  4G001BA49 ,  4G001BA60 ,  4G001BB04 ,  4G001BB08 ,  4G001BB22 ,  4G001BB24 ,  4G001BB32 ,  4G001BB49 ,  4G001BB73 ,  4G001BC13 ,  4G001BC23 ,  4G001BC42 ,  4G001BC47 ,  4G001BC48 ,  4G001BC52 ,  4G001BC54 ,  4G001BD13 ,  4G001BD21 ,  4G001BE15 ,  4G001BE31
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM