特許

J-GLOBAL ID：200903043815802418

反射型マスクの製造方法

発明者： 和佐 若菜 ,  清水 澄人 ,  押野 哲也
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-168566
公開番号（公開出願番号）：特開平8-017716
出願日： 1994年06月29日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】 多層膜の表面にX線吸収体層を設けた反射型マスクを製造する際に、多層膜にダメージを与えないで、X線吸収体層をパターン加工する方法を提供する。【構成】 X線反射層の表面に予め定められたパターンのX線吸収層を形成することによりX線投影露光用の反射型マスクを製造するに際して、X線反射層をマスク基板に設けた後に、このX線反射層表面にレジストパターンを設け、このレジストパターンを鋳型としてX線吸収体層を形成させる方法。

請求項（抜粋）：

X線反射層の表面に予め定められたパターンのX線吸収層を形成することによりX線投影露光用の反射型マスクを製造するに際し、前記X線反射層の表面にパターンニングされたレジスト層を形成するレジストパターン形成工程と、前記レジスト層のパターンから露出した前記X線反射層の表面にX線吸収層を形成するX線吸収層形成工程と、前記X線吸収層形成工程の後に前記レジスト層を除去するレジスト除去工程とを有することを特徴とする反射型マスクの製造方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/00 ,  G03F 1/08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光学素子及び光学素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-272844   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平1-302723
  
• 特開昭63-201656
  
• 光学素子及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-196311   出願人：株式会社日立製作所