特許
J-GLOBAL ID:200903043826771760

化学増幅型ポジ型レジスト用組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-012445
公開番号(公開出願番号):特開2005-234553
出願日: 2005年01月20日
公開日(公表日): 2005年09月02日
要約:
【課題】 解像度、感度およびパターン形状などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特にラインエッジラフネスが良好な化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)下式(I)の重合単位、(II)の重合単位、(III)および/または(IV)の重合単位を各々5〜50、5〜50、5〜50モル%含有する樹脂と、(B)光または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する感光性樹脂組成物。(R1:水素原子、メチル基。R2:アルキル。R10:ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基。n:0〜3の整数。)(R102:水素原子、メチル基。R11:アルキル基、アルコキシ基。m:0〜3の整数。)(R103とR104:水素原子、メチル基。R3とR4:アルキル基。R12とR13:アルキル基、アルコキシ基。pとq:0〜3の整数。)【選択図】 なし
請求項(抜粋):
(A)樹脂全重合単位の合計に対して、下式(I)で示される重合単位を5〜50モル%含有し、下式(II)で示される重合単位を5〜50モル%含有し、下式(III)および/または(IV)で示される重合単位を5〜50モル%含有する樹脂と、(B)光または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
IPC (3件):
G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  H01L21/027
FI (3件):
G03F7/039 601 ,  C08F220/28 ,  H01L21/30 502R
Fターム (25件):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BB00P ,  4J100BC03R ,  4J100BC04R ,  4J100BC26P ,  4J100BC27P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • レジスト組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-261054   出願人:日本ゼオン株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-401936   出願人:ジェイエスアール株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-083930   出願人:JSR株式会社, ジェイエスアールマイクロインコーポレイテッド

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