特許
J-GLOBAL ID：200903043917872577
レーザビームの強度分布をコントロールする手段と方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-096117
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066546
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：
【要約】【課題】 簡単な方法でレーザ放射の強度分布をコントロールし調整する装置および方法を提供する。【解決手段】 基板を加工するレーザビームの強度分布をコントロールする装置および方法である。レーザ放射が均質化装置を通過し、その後レーザビームの部分ビームが互いに重なり合ってレーザビームの強度分布の均質化が達成される。レーザビームの放射経路内の位置にダイアフラムを配置することによって、少なくともいくつかの部分ビームの様々な部分が切除されるように、互いに重なり合っている部分ビームから放射が切除される。
請求項（抜粋）：
レーザビーム(12)の放射経路内に配置され、前記レーザビーム(12)の強度分布の均質化を支援するように前記レーザビーム(12)の部分ビームを重ね合わせる均質化装置(10)によって前記レーザビーム(12)の強度分布をコントロールする装置であって、前記レーザビーム(12)の放射経路内に配置され、放射を部分ビーム(34)から、完全に互いに重ね合っていない少なくともいくつかのこれらの部分ビーム(30a,30b)の様々な部分が切除されるように切除するためのダイアフラム(36,38a,38b,40)を備えることを特徴とする装置。
IPC (4件)：
G02B 27/09
, B23K 26/06
, H01S 3/00
, H01S 3/225
G02B 27/00 E
, B23K 26/06 E
, H01S 3/00 B
, H01S 3/223 E
