特許
J-GLOBAL ID：200903043992072624
ホウ素中性子捕獲療法用ターゲットの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
社本 一夫
, 小野 新次郎
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 平山 晃二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-133455
公開番号（公開出願番号）：特開2007-303983
出願日： 2006年05月12日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：
【課題】加速器を利用したホウ素中性子捕獲療法において使用するリチウムターゲットの製造方法であって、リチウムと基盤用銅板との接触熱伝導を保ったまま、リチウム接合方法の簡素化及びリチウム厚みの均一性を向上させたリチウムターゲットの製造方法を提供すること。また、リチウムの寿命を向上させたリチウムターゲット及びその製造方法を提供すること。【解決手段】ホウ素中性子捕獲療法において陽子線を照射して7Li(p,n)7Be反応により中性子を発生させるためのリチウムターゲットの製造方法であって、基盤用銅板及びリチウム薄板を、不活性雰囲気内において、押圧手段により圧延圧着することを特徴とする、前記製造方法。更に、リチウム薄板を被覆するようにベリリウム薄膜を基盤用銅板に接合することを含むことが好ましい。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
ホウ素中性子捕獲療法において陽子線を照射して7Li(p,n)7Be反応により中性子を発生させるためのリチウムターゲットの製造方法であって、基盤用銅板及びリチウム薄板を、不活性雰囲気内において、押圧手段により圧延圧着することを特徴とする、前記製造方法。
IPC (3件)：
G21K 5/08
, H05H 6/00
, G21K 1/00
G21K5/08 N
, H05H6/00
, G21K1/00 N
2G085BA17
, 2G085DA03
, 2G085EA04
, 4C082AA01
, 4C082AC07
, 4C082AG01
, 4C082AT10
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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