特許

J-GLOBAL ID：200903044042044973

膜形成用組成物および層間絶縁膜用材料

発明者： 西川 通則 ,  角田 真由美 ,  篠田 智隆 ,  山田 欣司
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 白井 重隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-140922
公開番号（公開出願番号）：特開2000-327999
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 半導体素子などにおける層間絶縁膜として適当な、均一な厚さを有する塗膜が形成可能な、しかもクラックが生じ難く、弾性率などに優れた膜形成用組成物を提供すること。【解決手段】 R1 Si(OCH3 )3 (R1 は、1価の有機基を示す)、およびSi(OR2 )4 (R2 は、炭素数2以上の1価のアルキル基を示す)で表される化合物を、有機溶剤中で触媒および水の存在下で加水分解および/または縮合した加水分解縮合物を含有する膜形成用組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表される化合物とR1 Si(OCH3 )3 ・・・・・(1)(R1 は、1価の有機基を示す。)(B)下記一般式(2)で表される化合物Si(OR2 )4 ・・・・・(2)(R2 は、炭素数2以上の1価のアルキル基を示す。)との加水分解縮合物を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (3件)：

C09D183/04 ,  C08L 83/04 ,  C09D 5/25

FI (3件)：

C09D183/04 ,  C08L 83/04 ,  C09D 5/25

Fターム (12件)：

4J002CP021 ,  4J002CP022 ,  4J002CP031 ,  4J002CP032 ,  4J002EX036 ,  4J002EX037 ,  4J002GQ05 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038JC32 ,  4J038NA21 ,  4J038PB09

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 液晶表示素子絶縁被膜形成用塗布液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-004961   出願人：日産化学工業株式会社
• シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜及びそれを用いた半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-167346   出願人：日立化成工業株式会社
• 特開昭63-278977
  
• 特開昭63-278977