特許
J-GLOBAL ID：200903044042044973
膜形成用組成物および層間絶縁膜用材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
白井 重隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-140922
公開番号（公開出願番号）：特開2000-327999
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：
【要約】【課題】 半導体素子などにおける層間絶縁膜として適当な、均一な厚さを有する塗膜が形成可能な、しかもクラックが生じ難く、弾性率などに優れた膜形成用組成物を提供すること。【解決手段】 R1 Si(OCH3 )3 (R1 は、1価の有機基を示す)、およびSi(OR2 )4 (R2 は、炭素数2以上の1価のアルキル基を示す)で表される化合物を、有機溶剤中で触媒および水の存在下で加水分解および/または縮合した加水分解縮合物を含有する膜形成用組成物。
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(1)で表される化合物とR1 Si(OCH3 )3 ・・・・・(1)(R1 は、1価の有機基を示す。)(B)下記一般式(2)で表される化合物Si(OR2 )4 ・・・・・(2)(R2 は、炭素数2以上の1価のアルキル基を示す。)との加水分解縮合物を含有することを特徴とする膜形成用組成物。
IPC (3件)：
C09D183/04
, C08L 83/04
, C09D 5/25
C09D183/04
, C08L 83/04
, C09D 5/25
4J002CP021
, 4J002CP022
, 4J002CP031
, 4J002CP032
, 4J002EX036
, 4J002EX037
, 4J002GQ05
, 4J038DL021
, 4J038DL031
, 4J038JC32
, 4J038NA21
, 4J038PB09
