特許
J-GLOBAL ID：200903044059489944

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者：
岩井 武

岩井 武 について

, 
久保田 尚孝

久保田 尚孝 について

, 
藤村 悟史

藤村 悟史 について

, 
羽田 英夫

羽田 英夫 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 棚井 澄雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-369339
公開番号（公開出願番号）：特開2003-167346
出願日： 2001年12月03日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：
【要約】【課題】 200nm以下の波長の光源を用いたときに、優れた感度及び解像度を示し、かつエッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが小さく、及び走査型電子顕微鏡による観察時のライン・スリミングの小さい微細なレジストパターンを与えうる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 アクリル酸エステルから誘導される単位のみを主鎖に有し、酸の作用によりアルカリへの溶解性が増大する樹脂成分(A)と、酸発生剤成分(B)と、有機溶剤成分(C)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分(A)が2-メチル-2-アダマンチル基よりも容易に離脱する多環式の酸解離性溶解抑制基を側鎖に含む構成単位(a1)、ラクトン含有多環式基を側鎖に含む構成単位(a2)及び水酸基含有多環式基を側鎖に含む構成単位(a3)を含む共重合体であるポジ型レジスト組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法。
請求項（抜粋）：
アクリル酸エステルから誘導される単位のみを主鎖に有し、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤成分(C)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分(A)が酸解離性溶解抑制基として2-メチル-2-アダマンチル基よりも容易に脱離する多環式の溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)、ラクトン含有多環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)、及び水酸基含有多環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)を含む共重合体であるポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (26件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM