被処理体研磨のスラリー液供給システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松田克治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-195225
公開番号（公開出願番号）：特開平11-028664
出願日： 1997年07月07日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：

【要約】【課題】CMP装置のスラリー供給方法を提供する。【解決手段】本発明によれば、スラリー液6の循環タンク2と、このタンクの側面に独立した冷却タンク1を設けた二重構造のウォータジャケット式タンク3を採用し、且つ循環タンク2の底面にラバーヒータ9を貼り付け、スラリー液6の温度制御をしているので、冷却する時フロンを直接流さない為、環境的に安全であり、又循環タンク2の取り外しが容易である。更に、フィルタで使用済みスラリー液を再生するので、高価なスラリー液を再度使用することができる。

請求項（抜粋）：

銅パイプを介して触媒を直接流し、冷却及び加熱させながらタンク内のスラリー液温度を一定させる温調方法において、冷却水タンクとスラリー液循環タンクが独立した二重構造のウォータージャケット式タンクを設け、冷凍機からの冷却水を該冷却水タンクに循環させて冷却する工程と、該スラリー液が充填されている循環タンク底面に直接加熱ヒータを設けスラリー液を加熱する加熱工程と、該スラリー液の温度をセンサーで検知し、この情報に基づいて冷却水の流量と加熱ヒータに電流を制御して、該スラリー液温度を温度調節器で一定にする工程から成るスラリー液温調方法。

IPC (2件)：

B24B 55/03 , H01L 21/304 321

FI (2件)：

B24B 55/03 , H01L 21/304 321 E

引用特許：

審査官引用 (8件)

ウエーハの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-147694 出願人：信越化学工業株式会社
ワイヤソー装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-237573 出願人：株式会社日平トヤマ
特開昭62-176767

全件表示

前のページに戻る