絶縁膜形成用組成物、絶縁膜およびその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-202036
公開番号（公開出願番号）：特開2007-112977
出願日： 2006年07月25日
公開日（公表日）： 2007年05月10日
要約：

【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜を形成できる絶縁膜形成用組成物、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜および該絶縁膜を有する電子デバイスを提供する。【解決手段】カゴ型シルセスキオキサンをコア部にもち、重合性基を分岐末端にもつデンドリマー及び/またはその重合体と塗布溶剤を含む絶縁膜形成用組成物、および該膜形成組成物を用いて得られる絶縁膜、および該絶縁膜を有する電子デバイス。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

カゴ型シルセスキオキサンをコア部にもち、重合性基を分岐末端にもつデンドリマー及び/またはその重合体と塗布溶剤を含む絶縁膜形成用組成物。

IPC (8件)：

C08F 130/08 , H01L 21/316 , C08F 138/00 , C09D 183/07 , C09D 7/12 , H01L 21/768 , H01L 23/522 , C09D 5/25

FI (8件)：

C08F130/08 , H01L21/316 G , C08F138/00 , C09D183/07 , C09D7/12 , H01L21/90 Q , H01L21/90 J , C09D5/25

Fターム (27件)：

4J038DL111 , 4J038KA03 , 4J038KA04 , 4J038KA06 , 4J038MA07 , 4J038MA09 , 4J038NA21 , 4J038PA19 , 4J038PB09 , 4J100AP16P , 4J100AT00P , 4J100BA81P , 4J100CA01 , 4J100DA57 , 4J100FA03 , 4J100JA44 , 5F033RR25 , 5F033SS22 , 5F058AC03 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH02 , 5F058BC05 , 5F058BD07 , 5F058BF46 , 5F058BH04 , 5F058BJ02

引用特許：

出願人引用 (2件)

籠状シルセスキオキサン含有組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-177427 出願人：旭化成株式会社
分枝末端にアルコキシシリル基をもつデンドリマー
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-147364 出願人：日立化成工業株式会社

審査官引用 (5件)

籠状シルセスキオキサン含有組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-177427 出願人：旭化成株式会社
架橋性複合材料及びその積層体
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-197162 出願人：旭化成株式会社
特開平2-178291

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