特許

J-GLOBAL ID：200903044224833884

基板の洗浄装置

発明者： 今井 忍
出願人/特許権者： 株式会社東京精密
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-034388
公開番号（公開出願番号）：特開2007-214459
出願日： 2006年02月10日
公開日（公表日）： 2007年08月23日
要約：

【課題】簡易かつコンパクトな構成で高い洗浄性能を発揮できる基板の洗浄装置を提供する。【解決手段】テーブル上面12Aで被洗浄ワークWを吸引保持しながら回転駆動されるワークテーブル12と、円筒状の駆動軸14Bがモータ本体14Aを貫通して設けられるとともに、ワークテーブルの下面に駆動軸の一端が固着されている駆動モータ14と、駆動軸の他端が内部の密閉空間18Aに配されるとともに、密閉空間と外部とを連通させる排気孔18Cが形成されている密閉容器18と、密閉容器の排気孔に接続される減圧手段とを備える。駆動軸、密閉空間、及び排気孔を介してワークテーブル上面と減圧手段とが連通することにより、ワークテーブルの上面に被洗浄ワークを吸引保持しながら回転駆動可能となっている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

テーブル上面で被洗浄ワークを吸引保持しながら回転駆動されるワークテーブルと、 円筒状の駆動軸がモータ本体を貫通して設けられるとともに、前記ワークテーブルの下面に前記駆動軸の一端が固着されている駆動モータと、 前記駆動軸の他端が内部の密閉空間に配されるとともに、該密閉空間と外部とを連通させる排気孔が形成されている密閉容器と、 前記密閉容器の排気孔に接続される減圧手段と、 を備え、 前記駆動軸、前記密閉空間、及び前記排気孔を介して前記ワークテーブル上面と前記減圧手段とが連通することにより、前記ワークテーブルの上面に被洗浄ワークを吸引保持しながら回転駆動可能となっていることを特徴とする基板の洗浄装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  H01L 21/683

FI (6件)：

H01L21/304 651B ,  H01L21/304 648Z ,  B08B3/02 B ,  G02F1/13 505 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/68 P

Fターム (30件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB34 ,  3B201AB48 ,  3B201BA02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  3B201CD36 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  5F031HA02 ,  5F031HA13 ,  5F031HA59 ,  5F031JA09 ,  5F031JA15 ,  5F031JA21 ,  5F031JA32 ,  5F031MA23

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-230628   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 回転塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-064988   出願人：オリジン電気株式会社