特許
J-GLOBAL ID:200903044384316266

位置決めステージの制御方法及びその位置決めステージを用いた半導体製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 喜平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-187101
公開番号(公開出願番号):特開2003-009584
出願日: 2001年06月20日
公開日(公表日): 2003年01月10日
要約:
【要約】【課題】 ボイスコイルモータの電流と推力の関係が非線型となる場合に、所定の軌跡を描いて移動し、目標位置までの到達時間を短縮するとともに、高精度な位置決めを行うことが可能な位置決めステージの制御方法及びその位置決めステージを用いた半導体製造装置の提供を目的とする。【解決手段】 VCM15,16を用いた位置決めステージ1の制御方法において、VCM15,16の推力と電流との関係が非線型なとき、VCM15,16の動作位置、電流、推力の近似式から、演算部6において制御部4が求めた必要推力52と位置検出部2によって検出された位置検出信号51から実際に必要な推力を出力するような駆動電流53を計算し、VCM15,16を駆動する。
請求項(抜粋):
ボイスコイルモータをアクチュエータとする位置決めステージの制御方法において、前記ボイスコイルモータの推力とこの推力を発生させる電流との関係が非線型なとき、前記非線型な関係をあらかじめ求め、前記非線型な関係にもとづいて、任意の推力を発生させるように前記電流を補正することを特徴とする位置決めステージの制御方法。
IPC (3件):
H02P 7/00 101 ,  H01L 21/60 301 ,  H01L 21/60
FI (3件):
H02P 7/00 101 E ,  H01L 21/60 301 G ,  H01L 21/60 301 L
Fターム (9件):
5F044BB05 ,  5H540AA10 ,  5H540BA06 ,  5H540BB03 ,  5H540BB06 ,  5H540DD08 ,  5H540EE02 ,  5H540EE05 ,  5H540FA12
引用特許:
審査官引用 (4件)
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