特許

J-GLOBAL ID：200903044395908386

ウエーハ裏面検査装置

発明者： 藤戸 学 ,  加倉井 明宏
出願人/特許権者： 日本エレクトロセンサリデバイス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-343564
公開番号（公開出願番号）：特開2008-131025
出願日： 2006年11月21日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：

【課題】 エリアセンサカメラを用いたシリコンウエーハの裏面検査装置は、エリアセンサの分解能の制限から多数の少領域に分割して検査する必要があり、検査精度が低く、検査時間もかかる。本発明は、高い検査精度と再現性が得られ、加えて高速度で検査することにより検査時間の短縮を実現できるシリコンウエーハの裏面検査装置を提供する。【解決手段】 ラインセンサを撮像素子として備える撮像手段と、暗視野照明となるようにウエーハ裏面の撮像部位を照明する照明手段と、前記撮像手段および前記照明手段とウエーハとの間を一定方向に相対移動させる移動手段と、ウエーハの略円形の中心を回転中心として回転させるウエーハ回転手段とから成り、暗視野照明によりコントラスト高い欠陥画像が得られるとともに、ウエーハの異なる2方向のスキャン画像を得ることにより欠陥の方向に関係なく欠陥を観測できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ウエーハ裏面の欠陥を検査するウエーハ裏面検査装置であって、 ラインセンサを撮像素子として備える撮像手段と、 暗視野照明となるようにウエーハ裏面の撮像部位を照明する照明手段と、 前記撮像手段および前記照明手段とウエーハとの間を一定方向に相対移動させる移動手段と、 ウエーハの略円形の中心を回転中心として回転させるウエーハ回転手段と から構成されることを特徴とするウエーハ裏面検査装置。

IPC (2件)：

H01L 21/66 ,  G01N 21/956

FI (2件)：

H01L21/66 J ,  G01N21/956 A

Fターム (20件)：

2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BB05 ,  2G051BB09 ,  2G051BB17 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA06 ,  2G051DA08 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA38 ,  4M106CA41 ,  4M106CA46 ,  4M106DB04 ,  4M106DB12 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 表面検査方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-219021   出願人：浜松ホトニクス株式会社
• 特開平2-099806
  
• 基板検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-242638   出願人：オリンパス株式会社