リソグラフィシミュレーションのための装置および方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本恵一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-533885
公開番号（公開出願番号）：特表2007-507891
出願日： 2004年09月07日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：

【課題】従来のリソグラフィシミュレーションのための装置および方法によると、リソグラフィ処理の完全なプロセスシミュレートおよび/また解析ができないという課題があった。【解決手段】本発明は、アプリケーションに特化したハードウェアアクセラレータを含んでいるリソグラフィシミュレーション装置構造を利用しており、および、マスクデザインの実証、描写および/または検査を容易にし加速する処理手法を利用している。この処理装置は、デザインが最終ウェーハパターン上の望ましい結果を提供しおよび/または達成することを実証するため詳細なシミュレーションと完全なリソグラフィ過程の描写を含んでいる。装置は、データを取り扱う際に、分岐と内部従属を持っている事例に基づくロジックを実行する一般目的のコンピュータデバイスと計算が集中しているタスクの多くを実行するアクセラレータ装置を含んでいる。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

所定の構成の多数のポリゴンを含んでいるリソグラフィックデザインをシミュレートするための装置であって、多数のポリゴンをピクセルベースのビットマップ表現に変換するためのマイクロプロセッササブシステムと、前記マイクロプロセッササブシステムと対になって、該リソグラフィックデザインのピクセルベースのビットマップ表現を使用して該リソグラフィックデザインの空間イメージの少なくとも一部分を計算するためのアクセラレータサブシステムとを含み、該ピクセルベースのビットマップはピクセルデータを含んでおり、該ピクセルデータのそれぞれは所定のピクセルサイズを有しているピクセルを表現しており、該アクセラレータサブシステム中のハードウェアアクセラレータサブシステムはピクセルデータを並列に処理するために構成されている多数のプログラマブルゲートアレイを有していることを特徴とする装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08

FI (2件)：

H01L21/30 516Z , G03F1/08 S

Fターム (11件)：

2H095BA01 , 2H095BD03 , 2H095BD04 , 2H095BD09 , 2H095BD23 , 2H095BD28 , 5F046AA25 , 5F046AA28 , 5F046BA04 , 5F046CB17 , 5F046DA12

引用特許：

審査官引用 (5件)

フォトマスク外観検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-064834 出願人：凸版印刷株式会社
データ処理装置及び移動体通信端末装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-151734 出願人：株式会社日立製作所
半導体集積回路の開発方法
公報種別：再公表公報出願番号：JP1999002348 出願人：株式会社日立製作所

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