特許
J-GLOBAL ID：200903044687359596

スパッタ装置

発明者：
高橋 信行

高橋 信行 について


出願人/特許権者：
シーワイジー技術研究所株式会社

シーワイジー技術研究所株式会社 について


代理人 (2件)： 大貫 和保 ,  小竹 秋人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-135242
公開番号（公開出願番号）：特開2004-339547
出願日： 2003年05月14日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】従来のスパッタ装置よりも、さらに成膜分布及びカバレージ分布を向上させたスパッタ装置を提供する。【解決手段】基板と、該基板を保持する基板ホルダと、前記基板に薄膜を形成するためのターゲットと、該ターゲットが搭載されるスパッタカソードと、前記ターゲットの背面に配されるマグネットとによって少なくとも構成されるスパッタ装置において、前記ターゲットの軸を、前記スパッタカソードの軸に対して傾斜させると共に、前記スパッタカソードを自転させ、前記ターゲットを前記基板に対して揺動運動させる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板と、該基板を保持する基板ホルダと、前記基板に薄膜を形成するためのターゲットと、該ターゲットが搭載されるスパッタカソードと、前記ターゲットの背面に配されるマグネットとによって少なくとも構成されるスパッタ装置において、 前記ターゲットの軸を、前記スパッタカソードの軸に対して傾斜させると共に、前記スパッタカソードを自転させ、前記ターゲットを前記基板に対して揺動運動させることを特徴とするスパッタ装置。
IPC (1件)：
C23C14/34
FI (1件)：
C23C14/34 C
Fターム (3件)：
4K029CA05 ,  4K029DC12 ,  4K029DC45
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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