特許
J-GLOBAL ID:200903044777113944

重ね合わせ精度測定機の測定条件の最適化方法、並びにアラインメントマーク形状あるいは露光装置におけるアラインメントマーク測定方式の最適化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 孝久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-025989
公開番号(公開出願番号):特開平6-132189
出願日: 1993年01月22日
公開日(公表日): 1994年05月13日
要約:
【要約】【目的】エッチングすることなく、重ね合わせ精度測定機の測定条件を最適化する方法を提供する。【構成】この方法は、第1の測定マークから成る第1の重ね合わせずれ測定用パターン、及び第2の測定マークから成る第2の重ね合わせずれ測定用パターンを基板上に形成し、重ね合わせ精度測定機によって、第1の測定マークと第2の測定マークとの間の重ね合わせずれ量を測定し、各重ね合わせずれ量から所定の重ね合わせずれ量を減じて、重ね合わせずれ量差分を求め、重ね合わせずれ量差分のばらつきが最小となるように、重ね合わせ精度測定機の測定条件を調整する、各工程から成る。
請求項(抜粋):
基板上に形成された複数の第1の重ね合わせずれ測定用パターンと第2の重ね合わせずれ測定用パターンとの間の重ね合わせずれ量を重ね合わせ精度測定機によって測定し、かかる重ね合わせずれ量の測定結果に基づき重ね合わせ精度測定機の測定条件を最適化する方法であって、(イ)第1の中央測定マークと、該第1の中央測定マークの周辺に配置された複数の第1の周辺測定マークとから成る第1の重ね合わせずれ測定用パターンを基板上に複数形成する工程と、(ロ)第2の中央測定マークと、該第2の中央測定マークの周辺に配置された複数の第2の周辺測定マークとから成り、第1の中央測定マークと第1の周辺測定マークとの相対的な位置関係が第2の中央測定マークと第2の周辺測定マークとの相対的な位置関係と設計上等しい、第2の重ね合わせずれ測定用パターンを、第2の中央測定マークが前記第1の中央測定マークの概ね中央部分に形成され、且つ、複数の第2の周辺測定マークが前記複数の第1の周辺測定マークの概ね中央部分に形成されるように、基板上に複数形成する工程と、(ハ)第1の重ね合わせずれ測定用パターン及びそれに対応する第2の重ね合わせずれ測定用パターンの各々において、重ね合わせ精度測定機によって、第1の中央測定マークと第2の中央測定マークとの間の中央測定マーク重ね合わせずれ量を測定し、第1の周辺測定マークとこれに対応する第2の周辺測定マークとの間の周辺測定マーク重ね合わせずれ量を測定する重ね合わせずれ量測定工程と、(ニ)第1の重ね合わせずれ測定用パターン及びそれに対応する第2の重ね合わせずれ測定用パターンの各々において、各周辺測定マーク重ね合わせずれ量から、中央測定マーク重ね合わせずれ量を減じて、重ね合わせずれ量差分を求める工程、から成り、重ね合わせずれ量差分のばらつきが最小となるように、重ね合わせ精度測定機の測定条件を調整することを特徴とする重ね合わせ精度測定機の測定条件の最適化方法。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G01B 11/24 ,  G03F 9/00
FI (2件):
H01L 21/30 311 B ,  H01L 21/30 301 M
引用特許:
出願人引用 (6件)
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