一酸化炭素による窒素酸化物の選択的還元触媒およびその調製法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-226168
公開番号（公開出願番号）：特開2007-038155
出願日： 2005年08月04日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：

【課題】酸素が残存しSO2濃度が極めて低い燃焼排ガス中の窒素酸化物を一酸化炭素を還元剤に用いて還元無害化する触媒の提供。【解決手段】酸化タングステンとシリカを複合した担体にイリジウムを担持することを特徴とする触媒。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

イリジウムを酸化タングステン及びシリカからなる複合体に担持したことからなることを特徴とする一酸化炭素による窒素酸化物を選択的に還元する還元用触媒。

IPC (4件)：

B01J 23/652 , B01D 53/94 , B01J 37/02 , B01J 37/18

FI (4件)：

B01J23/64 103A , B01D53/36 102B , B01J37/02 101E , B01J37/18

Fターム (34件)：

4D048AA06 , 4D048AA13 , 4D048AB02 , 4D048BA06X , 4D048BA27X , 4D048BA33X , 4D048BA42X , 4D048BB01 , 4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA02C , 4G169BA37 , 4G169BB02A , 4G169BB02B , 4G169BB04C , 4G169BB06A , 4G169BB06B , 4G169BC60A , 4G169BC60B , 4G169BC60C , 4G169BC74A , 4G169BC74B , 4G169BD06A , 4G169BD06B , 4G169CA02 , 4G169CA03 , 4G169CA08 , 4G169CA13 , 4G169EA01Y , 4G169EB18Y , 4G169FA02 , 4G169FB20 , 4G169FB44 , 4G169FC01

引用特許：

出願人引用 (2件)

排気ガス浄化用触媒
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-106125 出願人：本田技研工業株式会社
窒素酸化物の接触還元除去触媒
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-225592 出願人：財団法人石油産業活性化センター, 独立行政法人産業技術総合研究所

審査官引用 (8件)

排ガス処理触媒およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-399556 出願人：三菱重工業株式会社
排ガス浄化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-073501 出願人：株式会社次世代排ガス触媒研究所
特開昭51-035667

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