特許
J-GLOBAL ID:200903044828379430
超臨界流体を利用した洗浄装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
梅田 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-019000
公開番号(公開出願番号):特開平8-206485
出願日: 1995年02月07日
公開日(公表日): 1996年08月13日
要約:
【要約】【目的】短時間に被洗浄物質の洗浄を行え、かつ、被洗浄物質の表面に付着したパーティクルまで除去することができる洗浄装置を提供する。【構成】洗浄槽1に循環経路7が接続されている。循環経路7には循環機2が設置されている。循環機2は、被洗浄物質4の洗浄中に、洗浄媒質である超臨界流体を循環させる。
請求項(抜粋):
洗浄槽内に導入された超臨界流体により、被洗浄物質を洗浄する洗浄装置において、前記洗浄槽と複数の接続口で接続された循環経路と、前記被洗浄物質の洗浄中に、前記洗浄槽内の圧力を略一定に保ちながら、超臨界流体を循環させる手段と、を備えてなることを特徴とする洗浄装置。
IPC (3件):
B01J 3/06
, G02F 1/13 101
, H01L 21/304 341
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開平1-170026
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精密洗浄方法および精密洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-202001
出願人:日機装株式会社
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超臨界流体による処理装置および処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-278503
出願人:オムロン株式会社
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板状体の洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-098384
出願人:富士電機株式会社
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洗浄処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-147022
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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特開昭63-179530
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