特許
J-GLOBAL ID：200903044886897033
高純度、高耐熱性石英ガラスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-221571
公開番号（公開出願番号）：特開平8-081226
出願日： 1994年09月16日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：
【要約】【構成】精製された四塩化珪素やアルキルシリケートなどの珪素化合物を原料として、気化した該原料を酸水素火炎中で加水分解させ、得られたシリカ粉をターゲットに堆積、軸方向に成長させることにより得られる高純度のシリカ多孔質体を加熱処理することにより石英ガラスを製造する方法に於いて、該シリカ多孔質体を予め水素を含有する雰囲気にて加熱処理を施すに際し、該処理後の高純度シリカ多孔質体の嵩密度が0.9〜1.9g/cm3になるまで加熱処理した後、透明ガラス化処理することを特徴とし、OH基濃度が10ppm以下であり、かつ1200°Cでの粘度が1013.0ポイズ以上である高純度、高耐熱性石英ガラスの製造方法。【効果】本発明の方法によれば、金属元素について各々50ppb以下と極めて高純度で、また、スート法、ゾル-ゲル法では得られなかった高耐熱性の石英ガラスを得ることができる。さらに、条件の最適化によりI型の天然石英ガラスと同等もしくはそれ以上の高耐熱性を有する石英ガラスが比較的容易な方法で製造することができる。
請求項（抜粋）：
精製された四塩化珪素やアルキルシリケートなどの珪素化合物を原料として、気化した該原料を酸水素火炎中で加水分解させ、得られたシリカ粉をターゲットに堆積、軸方向に成長させることにより得られる高純度のシリカ多孔質体を加熱処理することにより石英ガラスを製造する方法に於いて、該シリカ多孔質体を予め水素を含有する雰囲気にて加熱処理を施すに際し、該処理後の高純度シリカ多孔質体の嵩密度が0.9〜1.9g/cm3になるまで加熱処理した後、透明ガラス化処理することを特徴とし、OH基濃度が10ppm以下であり、かつ1200°Cでの粘度が1013.0ポイズ以上である高純度、高耐熱性石英ガラスの製造方法。
IPC (4件)：
C03B 8/04
, C01B 33/18
, C03B 20/00
, C03C 3/06
