基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-199933
公開番号（公開出願番号）：特開平11-045926
出願日： 1997年07月25日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：

【要約】【課題】処理時間の短縮を図ることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】複数の処理部の間を搬送ロボットが循環移動し、異なるレシピR[1]〜R[n]に対応する複数のロットL[1]〜L[2]を順番に処理していく基板処理装置であって、先行するロットの最後の基板の処理が完了する前に後続するロットの最初の基板の処理を開始する基板処理装置において、処理を開始する前に処理待ちのロットの処理順序の全パターンP[1]〜P[n!]について処理に要するトータル処理時間TT[1]〜TT[n!]を算出する。そして、これらのトータル処理時間のうち、最も値の小さいものに係るパターンをロットの実際の処理順序として決定する。これにより、処理待ちの全ロットを考慮した処理時間の短縮を図ることができる。

請求項（抜粋）：

基板群ごとに処理手順の異なる複数の基板群を順次処理する基板処理装置であって、基板に処理を施す複数の処理部と、前記複数の処理部間を循環移動しながら前記処理手順に従って前記複数の処理部のうち所要の処理部へと基板を搬送する搬送手段と、先行して処理される先行基板群の最後の基板の処理が完了する前に後続して処理される後続基板群の最初の基板の処理を開始する搬送制御手段と、前記複数の基板群の処理に要する時間が最短となるように前記複数の基板群の処理順序を予め決定する処理順序決定手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/02

FI (2件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/02 Z

引用特許：

審査官引用 (5件)

工程立案システム検証装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-040927 出願人：株式会社日立製作所, 日立エンジニアリング株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-277836 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
初期時限決定方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-201245 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド

全件表示

前のページに戻る