特許

J-GLOBAL ID：200903044941274350

光学要素、このような光学要素を含むリソグラフィ装置、デバイス製造方法およびそれによって製造したデバイス

発明者： マールテン マリヌス ヨハネス ヴィルヘルムス ファン ヘルペン ,  レフィヌス ピーター バッカー ,  デルク ヤン ヴィルフレッド クルンデル
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  田中 正 ,  森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-378882
公開番号（公開出願番号）：特開2006-235595
出願日： 2005年12月28日
公開日（公表日）： 2006年09月07日
要約：

【課題】EUV放射線を反射し、望ましくない放射線が反射しないように設計されたスペクトル純度フィルタを提供する。【解決手段】反射防止(AR)膜を含む光学要素は、超紫外線(EUV)放射線のみを反射するように構成される。約1/4λの厚さまたは約1/4λ未満の厚さの単一の膜で基板の表面を覆うことにより、頂部表面で反射した光線は下部表面で反射光線とは180°位相がずれ、弱め合う干渉が発生し、特定のλを有する放射線の反射が消去される。多層膜を使用することにより、より広い範囲のスペクトルに渡って光の損失を減少できる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

反射防止膜を有する光学要素であって、反射防止膜がEUV放射線を反射し、それによって放射線ビームのスペクトル純度を改善するように構成される光学要素。

IPC (6件)：

G02B 5/08 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G21K 1/06 ,  G02B 5/26 ,  G02B 1/11

FI (6件)：

G02B5/08 A ,  H01L21/30 531A ,  G03F7/20 521 ,  G21K1/06 C ,  G02B5/26 ,  G02B1/10 A

Fターム (16件)：

2H042DA08 ,  2H042DA10 ,  2H042DA12 ,  2H042DB02 ,  2H042DB14 ,  2H042DC02 ,  2H042DE00 ,  2H048FA05 ,  2H048FA07 ,  2H048FA18 ,  2K009BB01 ,  2K009CC06 ,  5F046GA03 ,  5F046GA20 ,  5F046GB01 ,  5F046GB07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 多層膜反射鏡及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-206837   出願人：株式会社ニコン
• リソグラフィ装置のレベルセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-005737   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ